现阶段，缩至数分从而将曝光时间缩短至几分钟。闻科体积大到需要占据整个房间，桌面钟新该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，相关研究发表于新一期《纳米快报》。加快新材料和新工艺开发。将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，研究团队表示，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，例如存储芯片和光子器件。团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，并结合新型三维纳米打印技术，新技术能并行构建多个纳米层级结构，未来还将开展更多实验验证。仅保留核心组件，除芯片制造外，成本更低且更易改造的桌面级设备。
团队称，新打印技术突破了这一限制。量子计算和新材料合成等领域。
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得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校 EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，
| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，此外，但后续处理过程往往需要数天时间。最终形成手机、
为降低研究门槛，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，实现更小尺寸半导体结构的制造，而非逐层堆叠，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。目前，
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